MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：68
- 题名/责任者:
- 材料结构与物性研究/孙霄霄, 张丹著
- 出版发行项:
- 北京:冶金工业出版社,2018
- ISBN及定价:
- 978-7-5024-7695-3/CNY36.00
- 载体形态项:
- 137页:图;24cm
- 个人责任者:
- 孙霄霄 著
- 个人责任者:
- 张丹 著
- 学科主题:
- 工程材料-结构性能
- 中图法分类号:
- TB303
- 一般附注:
- 牡丹江师范学院学术专项出版基金资助
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书采用基于密度泛函理论的第一性原理计算方法对半导体材料Si、二元半导体化合物（BiI3、Li3Bi、SbI3、AsI3）和过渡金属化合物（Mo2BC、Mo3Al2C）在高压下的结构、力学和电子性质进行了系统的研究。
- 使用对象附注:
- 本书适用于高等院校材料、物理、化学、电子等相关专业本科和研究生
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