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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:98

题名/责任者:
先进等离子体技术/(意) 里卡尔多·达阿戈斯蒂诺 ... [等] 著 刘佳琪, 任爱民, 邬润辉等译
出版发行项:
北京:中国宇航出版社,2021
ISBN及定价:
978-7-5159-1895-2 精装/CNY128.00
载体形态项:
xiv, 382页:图;27cm
统一题名:
Advanced plasma technology
个人责任者:
达戈斯蒂诺 (D'Agostino, Riccardo)
个人责任者:
法维亚 (Favia, Pietro)
个人责任者:
好伸·阿富
个人次要责任者:
刘佳琪
个人次要责任者:
任爱民
个人次要责任者:
邬润辉
学科主题:
等离子体应用-研究
中图法分类号:
O539
题名责任附注:
翻译人员名单题: 刘佳琪, 任爱民, 邬润辉, 孟刚, 刘鑫等8人
题名责任附注:
著者还有: (意) 彼得罗·法维亚 (Pietro Favia), (日) 好伸·阿富, (日) 伊代奥·伊凯加米, (日) 乘吉·佐都, (法) 法尔扎内·阿雷菲-洪塞里 (Farzaneh Arefi-Khonsari)
出版发行附注:
航天科技图书出版基金资助出版
出版发行附注:
著作权人授权出版
责任者附注:
责任者D'Agostino规范汉译姓: 达戈斯蒂诺
书目附注:
有书目
提要文摘附注:
本书介绍了低气压和大气压等离子体技术在多个技术领域中的研究进展,由等离子体技术研究领域知名科学家编写。主要内容包括等离子体在高分子材料、半导体、太阳能电池、生物材料、平面显示、水处理和火箭推进等技术领域的应用,也包含等离子体生成与控制方法、等离子体源及反应器设计、等离子体诊断、等离子体应用建模和仿真等基础内容。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置 定位
O539/3070 2398198   10楼南数、理科学借阅室     可借 定位 10楼南数、理科学借阅室
O539/3070 2398199   10楼南数、理科学借阅室     可借 定位 10楼南数、理科学借阅室
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