MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：89
- 题名/责任者:
- 硅及其氧化物的电化学:表面反应、结构和微加工/(加) 章小鸽编著 张俊喜, 张大全, 徐群杰等译
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社工业装备与信息工程出版中心,2004
- ISBN及定价:
- 7-5025-5698-2/CNY68.00
- 载体形态项:
- 443页:图;24cm
- 其它题名:
- 表面反应结构和微加工
- 个人责任者:
- 章小鸽 (Zhang, Xiaoge Gregory) 编著
- 个人次要责任者:
- 张俊喜 译
- 个人次要责任者:
- 张大全 译
- 个人次要责任者:
- 徐群杰 译
- 学科主题:
- 硅-电化学
- 学科主题:
- 硅-氧化物-电化学
- 中图法分类号:
- O613.72
- 中图法分类号:
- O646
- 出版发行附注:
- 本书中文简体字版由Klrwer Academic / Plenum Publishers出版公司授权化学工业出版社独家出版发行.
- 相关题名附注:
- 英文并列题名取自版权页
- 书目附注:
- 有书目 (第398-443页)
- 提要文摘附注:
- 本书详细地阐述了硅、电解液界面、阳极氧化、浸刻、光效应、阴极反应及光电化学等内容，对研究硅表面现象的科研人员和开发以硅为基的电子器件的工程师具有重大的实用价值和理论指导。
- 使用对象附注:
- 相关领域科研人员、工程师, 高校学生.
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