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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:67

题名/责任者:
数码摄影工坊:曝光/(美) Jeff Wignall著 张波译
出版发行项:
北京:人民邮电出版社,2008
ISBN及定价:
978-7-115-18499-3/CNY59.00
载体形态项:
270页, [1] 叶图版:彩图;21cm
统一题名:
Exposure photo workshop
其它题名:
曝光
个人责任者:
威格纳尔 (Wignall, Jeff)
个人次要责任者:
张波
学科主题:
数码照相机-摄影技术
学科主题:
摄影光学-基本知识
中图法分类号:
TB8
中图法分类号:
TB86
科图法分类号:
71.6
版本附注:
据原著2008年版译出
出版发行附注:
本书中文简体字版由Wiley Publishing公司授权人民邮电出版社出版
责任者附注:
责任者 (Wignall) 规范汉译姓: 威格纳尔.
提要文摘附注:
书中首先介绍了曝光的艺术、曝光控制方法、测光、光圈与景深等知识,然后介绍了各种情况下的曝光技巧,其中包括移动对象的曝光、使用自然光进行曝光、各种复杂情况下的曝光、夜间曝光、日出日落曝光和闪光灯摄影。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置 定位
TB8/8075#3 1658406   9楼南电信软件工程借阅室     可借 定位
TB8/8075#3 1658407   9楼南电信软件工程借阅室     可借 定位 总服务台
TB8/8075#3 1658405   理科综合阅览室     保留本 定位
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