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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:142

题名/责任者:
摄影曝光入门与提高/(美) 杰夫·雷维尔著 张婷译
出版发行项:
北京:人民邮电出版社,2012
ISBN及定价:
978-7-115-25574-7/CNY59.00
载体形态项:
272页:彩图;21x19cm
统一题名:
Exposure : from snapshots to great shots
个人责任者:
雷维尔 (Revell, Jeff)
个人次要责任者:
张婷
学科主题:
曝光-摄影技术-基本知识
中图法分类号:
J41
出版发行附注:
由美国Peachpit Press授权出版
提要文摘附注:
本书讲述了影响摄影曝光的各种因素, 包括光圈、快门、 ISO、镜头选择和景深, 以及其他摄影知识, 并使用了大量优质数码照片及其拍摄数据和注释。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置 定位
J41/7440 1874552  - 12楼北艺轻建筑借阅室     可借 定位 借还中心(服务台)
J41/7440 1874551  - 美术学院资料室     保留本 定位
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