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MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：62

题名/责任者:
真空镀膜设备/张以忱编著
出版发行项:
北京:冶金工业出版社,2009
ISBN及定价:
978-7-5024-5014-4/CNY26.00
载体形态项:
205页:图;21cm
丛编项:
真空工程技术丛书
个人责任者:
张以忱 编著
学科主题:
真空技术-镀膜-设备
中图法分类号:
TN305.8
书目附注:
有书目 (第203-205页)
提要文摘附注:
本书详细介绍了真空镀膜设备的设计与镀膜设备各机构元件的设计计算、设计参数的选择，其中重点、系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和溅射镀膜厚均匀性设计。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 定位
TN305.8/1229 1687396   9楼南电信软件工程借阅室     可借 定位
TN305.8/1229 1687397   9楼南电信软件工程借阅室     可借 定位
TN305.8/1229 1687395   理科综合阅览室     保留本 定位
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