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题名/责任者:

集成电路掩模设计:基础版图技术/(美) Christopher Saint, Judy Saint著 周润德, 金申美译

出版发行项:

北京:清华大学出版社,2006

ISBN及定价:

7-302-10860-9/CNY59.00

载体形态项:

16, 435页:图;23cm

并列正题名:

IC mask design:essential layout techniques

丛编项:

国外大学优秀教材:翻译版.微电子类系列

个人责任者:

圣, C. (Saint, Christopher), 1961- 著

个人责任者:

圣, J. (Saint, Judy) 著

个人次要责任者:

周润德 译

个人次要责任者:

金申美 译

学科主题:

集成电路-电路设计-教材

中图法分类号:

TN402

出版发行附注:

本书中文简体字翻译版由美国麦格劳-希尔教育出版公司授权清华大学出版社出版发行

相关题名附注:

英文并列题名取自书中

责任者附注:

责任者规范汉译姓: 圣.

提要文摘附注:

本书覆盖了模拟电路、数字电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路的版图设计技术，讨论了版图设计中有关匹配、寄生参数、噪声、布局、验证、封装等问题及数据格式。

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