MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：83
- 题名/责任者:
- 集成电路掩模设计:基础版图技术/(美) Christopher Saint, Judy Saint著 周润德, 金申美译
- 出版发行项:
- 北京:清华大学出版社,2006
- ISBN及定价:
- 7-302-10860-9/CNY59.00
- 载体形态项:
- 16, 435页:图;23cm
- 并列正题名:
- IC mask design:essential layout techniques
- 丛编项:
- 国外大学优秀教材:翻译版.微电子类系列
- 个人责任者:
- 圣, C. (Saint, Christopher), 1961- 著
- 个人责任者:
- 圣, J. (Saint, Judy) 著
- 个人次要责任者:
- 周润德 译
- 个人次要责任者:
- 金申美 译
- 学科主题:
- 集成电路-电路设计-教材
- 中图法分类号:
- TN402
- 出版发行附注:
- 本书中文简体字翻译版由美国麦格劳-希尔教育出版公司授权清华大学出版社出版发行
- 相关题名附注:
- 英文并列题名取自书中
- 责任者附注:
- 责任者规范汉译姓: 圣.
- 提要文摘附注:
- 本书覆盖了模拟电路、数字电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路的版图设计技术，讨论了版图设计中有关匹配、寄生参数、噪声、布局、验证、封装等问题及数据格式。
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密集书库三
密三2B19