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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:116

题名/责任者:
等离子体技术基础/(马来) 乔·山·王, (泰) 拉塔查特·蒙空那温著 刘佳琪, 任爱民, 邬润辉译
出版发行项:
北京:中国宇航出版社,2022
ISBN及定价:
978-7-5159-2103-7 精装/CNY68.00
载体形态项:
138页:图;22cm
统一题名:
Elements of plasma technology
个人责任者:
(Wong, Chiow San)
个人责任者:
蒙空那温 (Mongkolnavin, Rattachat)
个人次要责任者:
刘佳琪
个人次要责任者:
任爱民
个人次要责任者:
邬润辉
学科主题:
等离子体应用
中图法分类号:
O539
一般附注:
航天科技图书出版基金赞助出版
书目附注:
有书目
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置 定位
O539/5029 2405012   10楼南数、理科学借阅室     可借 定位 10楼南数、理科学借阅室
O539/5029 2405013   10楼南数、理科学借阅室     可借 定位 10楼南数、理科学借阅室
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