检索到 8 条 分类号=TN305.3 的结果
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中文图书1.离子注入技术 TN305.3/1292
馆藏复本：4
可借复本：3 张光华, 钟士谦编著
机械工业出版社 1982
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中文图书2.半导体中离子注入 TN305.3/2060
馆藏复本：6
可借复本：5 (英) 加特, 格兰特著
国防工业出版社 1982
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中文图书3.离子注入原理与技术 TN305.3/1204
馆藏复本：4
可借复本：3 北京市辐射中心, 北京师范大学低能核物理研究所离子注入研究室编著编著
北京出版社 1982
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中文图书4.离子注入物理 TN305.3/6012
馆藏复本：3
可借复本：2 罗晋生主编
上海科学技术出版社 1984
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西文图书5.Ion implantation : science and technology / TN305.3/Z66
馆藏复本：1
可借复本：0 edited by J.F. Ziegler.
Academic Press, 1984.
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西文图书6.Ion implantation techniques : lectures given at the Ion Implantation School, in connection with t... TN305.3-53/I64
馆藏复本：1
可借复本：0 editors, H. Ryssel and H. Glawischnig.
Springer-Verlag, 1982.
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西文图书7.Ion implantation : equipment and techniques : proceedings of the Fourth International Conference,... TN305.3-53/I61
馆藏复本：1
可借复本：0 editors, H. Ryssel and H. Glawischnig.
Springer-Verlag, 1983.
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西文图书8.Impurity doping processes in silicon / TN305.3/W246
馆藏复本：1
可借复本：0 edited by F.F.Y. Wang.
North-Holland Pub. Co. ; c1981.
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