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• 000 01247nam 2200337 450

• 001 0000329752

• 005 20100406093433.0

• 010 __ |a 978-7-5024-5020-5 |d CNY59.00

• 099 __ |a CAL 012009165389

• 100 __ |a 20091027d2009 em y0chiy50 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a ak a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 真空镀膜技术 |A zhen kong du mo ji shu |f 张以忱等编著

• 210 __ |a 北京 |c 冶金工业出版社 |d 2009

• 215 __ |a 558页 |c 图 |d 24cm

• 225 2_ |a 真空工程技术丛书 |A zhen kong gong cheng ji shu cong shu

• 320 __ |a 有书目 (第554-558页)

• 330 __ |a 本书共分10章，系统地阐述了真空镀膜技术的基本概念和基础理论、各种薄膜制备技术、设备及工艺、真空卷绕镀膜技术、ITO导电玻璃真空镀膜工艺，尤其重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术，如反应磁控溅射镀膜技术、中频磁控溅射镀膜和非平衡磁控溅射镀膜技术等。

• 410 _0 |1 2001 |a 真空工程技术丛书

• 606 0_ |a 真空技术 |A zhen kong ji shu |x 镀膜

• 690 __ |a TN305.8 |v 4

• 701 _0 |a 张以忱 |A zhang yi chen |4 编著

• 801 _0 |a CN |b CEPC1 |c 20091027

• 801 _2 |a CN |b SCNU |c 20100406

• 905 __ |a SCNU |f TN305.8/1229/ 1

• 999 __ |M luol |m 20100406 09:34:33 |G luol |g 20100406 11:39:11

• 000 0000405537

• 991 __ |a 012010006659

• 907 __ |a SCNU |f TN305.8/1229/ 1