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• 200 1_ |a 等离子体技术基础 |A deng li zi ti ji shu ji chu |f (马来) 乔·山·王, (泰) 拉塔查特·蒙空那温著 |d = Elements of plasma technology |f Chiow San Wong, Rattachat Mongkolnavin |g 刘佳琪, 任爱民, 邬润辉译 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 中国宇航出版社 |d 2022

• 215 __ |a 138页 |c 图 |d 22cm

• 300 __ |a 航天科技图书出版基金赞助出版

• 320 __ |a 有书目

• 500 10 |a Elements of plasma technology |m Chinese

• 606 0_ |a 等离子体应用 |A deng li zi ti ying yong

• 690 __ |a O539 |v 5

• 701 _1 |a 王 |A wang |g (Wong, Chiow San) |4 著

• 701 _1 |a 蒙空那温 |A meng kong na wen |g (Mongkolnavin, Rattachat) |4 著

• 702 _0 |a 刘佳琪 |A liu jia qi |4 译

• 702 _0 |a 任爱民 |A ren ai min |4 译

• 702 _0 |a 邬润辉 |A wu run hui |4 译

• 801 _0 |a CN |b XJT |c 20221122

• 801 _2 |a CN |b PUL |c 20230110

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