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• 200 1_ |a 真空镀膜设备 |A zhen kong du mo she bei |f 张以忱编著

• 210 __ |a 北京 |c 冶金工业出版社 |d 2009

• 215 __ |a 205页 |c 图 |d 21cm

• 225 2_ |a 真空工程技术丛书 |A zhen kong gong cheng ji shu cong shu

• 320 __ |a 有书目 (第203-205页)

• 330 __ |a 本书详细介绍了真空镀膜设备的设计与镀膜设备各机构元件的设计计算、设计参数的选择，其中重点、系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和溅射镀膜厚均匀性设计。

• 410 _0 |1 2001 |a 真空工程技术丛书

• 606 0_ |a 真空技术 |A zhen kong ji shu |x 镀膜 |x 设备

• 690 __ |a TN305.8 |v 4

• 701 _0 |a 张以忱 |A zhang yi chen |4 编著

• 801 _0 |a CN |b WHUTL |c 20091016

• 801 _2 |a CN |b SCNU |c 20100329

• 905 __ |a SCNU |f TN305.8/1229

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