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• 200 1_ |a 硅及其氧化物的电化学 |A gui ji qi yang hua wu de dian hua xue |e 表面反应、结构和微加工 |f (加) 章小鸽编著 |g 张俊喜, 张大全, 徐群杰等译

• 210 __ |a 北京 |c 化学工业出版社工业装备与信息工程出版中心 |d 2004

• 215 __ |a 443页 |c 图 |d 24cm

• 306 __ |a 本书中文简体字版由Klrwer Academic / Plenum Publishers出版公司授权化学工业出版社独家出版发行.

• 312 __ |a 英文并列题名取自版权页

• 320 __ |a 有书目 (第398-443页)

• 330 __ |a 本书详细地阐述了硅、电解液界面、阳极氧化、浸刻、光效应、阴极反应及光电化学等内容，对研究硅表面现象的科研人员和开发以硅为基的电子器件的工程师具有重大的实用价值和理论指导。

• 333 __ |a 相关领域科研人员、工程师, 高校学生.

• 510 1_ |a Electrochemistry of silicon and its oxide |z eng

• 517 1_ |a 表面反应结构和微加工 |A biao mian fan ying jie gou he wei jia gong

• 606 0_ |a 硅 |A gui |x 电化学

• 606 0_ |a 硅 |A gui |x 氧化物 |x 电化学

• 690 __ |a O613.72 |v 4

• 690 __ |a O646 |v 4

• 701 _0 |a 章小鸽 |A zhang xiao ge |g (Zhang, Xiaoge Gregory) |4 编著

• 702 _0 |a 张俊喜 |A zhang jun xi |4 译

• 702 _0 |a 张大全 |A zhang da quan |4 译

• 702 _0 |a 徐群杰 |A xu qun jie |4 译

• 801 _0 |a CN |b DUTL |c 20040927

• 801 _2 |a CN |b SCNU |c 20050325

• 905 __ |a SCNU |f O613.72/0098

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