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• 200 1_ |a 红外焦平面阵列成像及其非均匀性校正技术 |A hong wai jiao ping mian zhen lie cheng xiang ji qi fei jun yun xing jiao zheng ji shu |f 代少升 ... [等] 著

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2015

• 215 __ |a 158页 |c 图 |d 24cm

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 全书共7章，第1章绪论，主要阐述红外线的发现、红外热成像技术的国内外发展现状和红外焦平面阵列非均匀性校正的意义。第2章为红外辐射理论，主要介绍红外辐射的普遍性、红外辐射源的概念及红外辐射的基本定律。第3章为红外焦平面阵列工作原理及其成像系统的设计，主要介绍红外焦平面阵列的工作原理、红外成像系统的构成，并给出红外成像系统的具体设计。第4章为红外焦平面阵列非均匀性校正技术，主要介绍红外焦平面阵列非均匀性定义、非均匀性校正方法分类、定标类校正方法和场景类校正方法的实现过程。

• 333 __ |a 本书读者主可供科研院所、企业单位及高等院校从事红外热成像技术研究的管理人员、科研工作人员，技术人员及销售人员学习和参考，也可作为高等院校电子信息类相关专业（电子信息、光电工程、计算机专业）的高年级本科生、研究生参考资料。

• 606 0_ |a 红外成象系统 |A hong wai cheng xiang xi tong |x 研究

• 606 0_ |a 红外成象系统 |A hong wai cheng xiang xi tong |x 校正

• 690 __ |a TN216 |v 5

• 701 _0 |a 代少升 |A dai shao sheng |4 著

• 801 _0 |a CN |b NJU |c 20150401

• 905 __ |a SCNU |f TN216/2392

• 920 __ |a 242430 |z 1