MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：68
- 题名/责任者:
- 真空镀膜技术/张以忱等编著
- 出版发行项:
- 北京:冶金工业出版社,2009
- ISBN及定价:
- 978-7-5024-5020-5/CNY59.00
- 载体形态项:
- 558页:图;24cm
- 丛编项:
- 真空工程技术丛书
- 个人责任者:
- 张以忱 编著
- 学科主题:
- 真空技术-镀膜
- 中图法分类号:
- TN305.8
- 书目附注:
- 有书目 (第554-558页)
- 提要文摘附注:
- 本书共分10章，系统地阐述了真空镀膜技术的基本概念和基础理论、各种薄膜制备技术、设备及工艺、真空卷绕镀膜技术、ITO导电玻璃真空镀膜工艺，尤其重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术，如反应磁控溅射镀膜技术、中频磁控溅射镀膜和非平衡磁控溅射镀膜技术等。
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